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上海伯东 Atonarp 过程质谱提供刻蚀终点检测解决方案
改进晶圆制造工艺, 探索蚀刻终点的上海伯东 Aston™ 质谱仪凭借高灵敏度为刻蚀工艺提供解决方案.
为了确保一致和优化的接触蚀刻, 需要高灵敏度的原位分子诊断来提供蚀刻副产物的实时测量和量化, 并能够检测到明确定义的终点. 随着接触开口面积 OA% 的减少, 诸如光学发射光谱 OES 等传统计量解决方案缺乏准确检测蚀刻终点的灵敏度（低信噪比 SNR 比）. Aston™ 质谱仪的 OA% 灵敏度显示为 <0.25%, 其检测限比 OES （LOD 约 2.5%）高出一个数量级. 此外, Aston™ 质谱仪内部产生的基于等离子体的电离源允许它在存在腐蚀性蚀刻气体的情况下工作, 无论处理室中是否存在等离子体源.


上海伯东日本 Atonarp Aston™ 质谱仪能够进行准确且可操作的终点检测, OA% 是传统 OES 发射光谱计量解决方案的一个数量级（1/10）.  Aston™ 质谱仪解决方案适用于具有高蚀刻吞吐量和大量重复相同步骤的工艺中的实时 EPD.  这是通过高信噪比 SNR 实现的, 从而避免了 OES 设备中常见的模棱两可和复杂的多变量分析算法.

Atonarp Aston™ 质谱仪特点
1. 耐腐蚀性气体
2. 抗冷凝
3. 实时, 可操作的数据
4. 云连接就绪
5. 无需等离子体
6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.

上海伯东代理日本 Atonarp 过程控制质谱仪 Aston™, 通过使用分子传感技术, 提供半导体制程中  ALD, CVD, 蚀刻, ALE 和腔室在大批量生产中的气体侦测分析, 实现尾气在线监控, 诊断, 为半导体过程控制提供解决方案, 提高半导体制造工艺的产量, 吞吐量和效率, 在现有生产工艺工具上加装 Aston, 可在短时间内实现晶圆更高产量!

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