（光伏专用/科研通用两种应用选择）
HG-ES光谱椭偏仪是针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的高性能光谱椭偏仪。
HG-ES光谱椭偏仪用于测量和分析光伏领域中多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k），典型样品包括：绒面单晶和多晶太阳电池上的单层减反膜（如SiNx，SiO2，TiO2，Al2O3等）和多层减反膜（如，SiNx/SiO2, SiNx2/SiNx1, SiNx /Al2O3 等），以及薄膜太阳电池中的多层纳米薄膜。
特点：
· 粗糙绒面纳米薄膜的高灵敏测量
· 晶体硅多层减反膜检测
· 秒级的快速测量
· 一键式仪器操作
· 高品质相位补偿
· 氙灯光源强度优化系统
· 退偏纠正
· 自动可变入射角度
· 背照式CCD光谱采集系统
· 自动XYZ载物台、真空吸附
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应用：
HG-ES光谱椭偏仪的应用覆盖了传统光谱椭偏仪所测量的光面基底上的单层和多层纳米薄膜，典型应用包括：半导体（如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等）、平板显示（TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等）、功能性涂料：（增透型、自清洁型、电致变色型、镜面性光学涂层，以及高分子、油类、Al2O3表面镀层和处理等)、生物和化学工程（有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理、液体等）等。
技术指标:
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项目 |
技术指标 |
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光谱范围 |
240nm-930nm（绒面测量时为350-850nm）(光谱范围可选) |
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单次测量时间 |
10s,取决于测量模式 |
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膜层厚度精度（1） |
0.05nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
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折射率精度（1） |
1x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
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入射角度 |
40°-90°自动调节 |
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光学结构 |
PSCA（Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度） |
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样品台尺寸 |
一体化样品台轻松变换可测量单晶或多晶样品 |
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兼容125*125mm和156*156mm的太阳能电池样品 |
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样品方位调整 |
Z轴高度调节：±6.5mm |
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二维俯仰调节：±4° |
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样品对准：光学自准直显微和望远对准系统 |
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软件 |
•多语言界面切换 |
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•太阳能电池样品预设项目供快捷操作使用 |
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•安全的权限管理模式（管理员、操作员） |
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•方便的材料数据库以及多种色散模型库 |
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•丰富的模型数据库 |
注：(1)精度：是指对标准样品上同一点、同一条件下连续测量30次所计算的标准差。
