AR膜系 硅铝靶材 高纯3-6NSiAI low-E镀膜玻璃材料 可定制

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喷涂硅吕靶材 spray sial target
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产品说明product deion
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以等离子体为热源，在大气环境下通过一定的气氛保护装置，将si+al粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度sial靶材。
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参数 specifications
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检测手段
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testing method
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纯度 purity
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≥99.9%
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al含量 al content
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8-10%
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密度 density
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≥2.2 g/cm3
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杂质含量 impurities
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fe: ≤350 ppm
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ca: ≤50 ppm
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cu: ≤50 ppm
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mg: ≤20 ppm
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ni: ≤20 ppm
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o: ≤6000 ppm
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n: ≤500 ppm
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杂质总和(o、n除外): ≤1000 ppm
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total impurity (excluding o, n)
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icp
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氧氮分析仪
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oxygen and nitrogen analyzer
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电阻率 electrical resistivity
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≤50 mω?cm
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四探针电阻率仪
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four-probe resistivity meter
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背管材质 backing tube
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-选用304/316l不锈钢（无磁）
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304/316l stainless steel (non-magnetic)
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靶材尺寸dimension
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-按照图纸要求加工
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应用领域applications
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-用于制作sio2膜、si3n4膜，主要用于光学玻璃ar膜，low-e镀膜玻璃，半导体电子器件，tft-lcd，平面显示，触摸屏玻璃。
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