高纯硅靶材/粉体 3-6N LOW-E玻璃喷涂靶材 可定制

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喷涂硅靶材 spray si target
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产品说明product deion
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以等离子体为热源，在真空环境，或负压氮气或氩气保护环境下将si粉末加热到熔融或半熔融状态并高速冲击背管表面形成致密涂层，从而制备出高纯度、低氧含量、高致密度si靶材。
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产品特点products feature项目 item
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参数 specifications
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检测手段 testing method
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纯度purity（si+b）
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≥ 99.99%
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密度density
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≥2.2 g/cm3
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阿基米德密度仪
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archimedes densimeter
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杂质含量inclusions
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fe +al+ca: ≤50 ppm
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b: ≤100 ppm
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o: ≤2000 ppm
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n: ≤500 ppm
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杂质总和(o、n、b除外): ≤100 ppm
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total impurity (excluding o, n, b ): ≤100 ppm
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icp
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电阻率
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electrical resistivity
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≤10ω·cm
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四探针电阻率仪
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four probe resistivity meter
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背管材质 backing tube
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-选用304/316l不锈钢（无磁）。
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304/316l stainless steel (non-magnetic).
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靶材尺寸dimension
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-按照图纸要求加工
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according to customized drawings.
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应用领域applications
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-用于制作sio2/si3n4膜，主要用于光学玻璃，触摸屏之ar膜系，low-e镀膜玻璃，半导体电子，平面显示，触摸屏。
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for deposition of sio2/si3n4 films, for optical glasses, ar films of touch panel screens, low-e glasses, semiconductor devices and flat panel screens.
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