PVD涂层是通过蒸发过程在真空室中进行的。钛通过磁控溅射或多弧蒸发。我们使用这两种技术生产PVD系统。带正电的钛离子与氮气、氩气、乙炔或氧气混合形成等离子体。带正电的钛等离子体被吸引到带负电的工件上，从而在工件上形成薄而均匀的涂层。

ARC-1000是我公司最受欢迎的PVD镀膜机型号。此模型是为功能应用程序而设计的。