真空PVD沉积技术：PVD是物理气相沉积的简称，是一种在真空环境下，通过物理过程（如蒸发、溅射等）将材料沉积到基材表面的技术。与化学气相沉积(CVD)相比，PVD沉积的温度较低，对基材的影响较小，且沉积的薄膜更纯净，无污染物引入。

设备组成：氮铝化钛涂层真空PVD沉积镀膜机主要由真空室、靶材、基材夹具、气体供应系统、电源系统、真空泵组以及控制系统等组成。靶材为氮铝化钛材料，基材通过夹具固定在真空室内，通过电源系统对靶材施加电压，使其发生溅射或蒸发，从而在基材表面形成涂层。

应用领域：AITiN涂层广泛应用于各种需要高硬度、耐磨、耐腐蚀和高温稳定性的领域。例如，在模具制造中，可以显著提高模具的使用寿命；在切削工具中，可以提高切削效率并减少刀具磨损；在航空航天领域，可以用于提高部件的性能和耐久性。

优势：与传统的涂层技术相比，氮铝化钛涂层真空PVD沉积镀膜机具有涂层质量高、结合力强、环保无污染等优势。同时，由于采用真空PVD技术，可以实现精确的涂层厚度和成分控制，满足不同应用的需求。