真空多弧离子镀膜机的工作原理主要是通过加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点-岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。对于溅射类镀膜，则是利用电子或高能激光轰击靶材，使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

这类设备的适用范围非常广泛，可以用于金属、陶瓷和玻璃等材料的装饰配件镀膜，提供各种颜色和效果的表面处理，满足不同行业的需求。同时，由于它能够在真空环境下进行高能量高密度的金属等离子体蒸发，因此可以在工件表面形成致密、结合力好的膜层，提高材料的耐磨性、耐腐蚀性和美观度。