光学镀膜机

机型：XHE系列

精密光学电子枪蒸镀系统专门为精密光学薄膜器件镀膜而设计，各系统设计和整体结构满足光学薄膜生产工艺要求。

设备特点

1真空指标：极限真空：5.0E-5pa（洁净空载，有伞架，有护板、无基板情况下）

2抽空时间：大气至3.0E-3pa≤15min

3真空压升率：≤0.5pa/h（洁净空载、抽空至极限真空后开始测试）

4烘烤指标：最高温度300℃，多点控温，测温准确，PID智能控温系统，温度可控可调

5光学实时监控：先进的光学监控系统，通过安装在腔内的监控组件，实时监控E-beam伞顶上基片的厚度并反馈回系统，通过馈入反馈信息控制成膜系统，达到实时监控修正膜厚的目的

6成膜系统：270°E型双电子枪蒸发源，配备挡板，水冷坩埚和多穴位坩埚可供选择。IAO离子辅助成膜，提高光学膜层特性，改善基片表面活性和附着力等

精密光学蒸镀系统

1能够实现0-200层膜的膜系镀膜

2可沉积金属膜、半导体膜、及各类化合物（氧化物、氮化物、碳化物等）膜

3配置高精度的电子枪和离子源

4集成电阻蒸发，镀膜工艺和膜厚自动控制，薄膜质量稳定

联系人：段先生

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