纳米干冰光学零件清洗设备
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纳米干冰光学零件清洗设备

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广东省 佛山市
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佛山微迈科技有限公司
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广东省 佛山市
纳米干冰半导体清洗设备原理导航栏
 
以颗粒状的干冰作为清洗介质,通过压缩空气将干冰微粒高速喷向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷冻至脆化并爆裂,干冰微粒通过撞击作用渗透到污垢
及基层材料之间,随即升华,体积瞬时增大800倍,迫使污垢与基层材料脱离,达到清洗的目的。
 
干冰清洗工作
单喷头干冰清洗工作图
干冰清洗原理示意图
单喷头干冰清洗工作图
单喷头干冰清洗速度压力仿真
单喷头干冰清洗速度压力仿真                                                               干冰清洗原理示意图
 
纳米干冰半导体清洗设备技术对比导航
 
序号 清洗方法 异物粒子祛除 膜层祛除 对物件的损伤 干燥工序 环境污染 难题
湿法 1 纯水 一般 较差 一般 水膜再着附,金属元素残留
2 有机溶剂 一般 较好 较大 有机溶剂再着附,溶剂后处理
干法 3 纳米干冰 很好 较低 清洗面积较小
4 超声波 一般 一般 固体异物,微细颗粒难除净
5 空气 一般 一般 固体异物,微细颗粒难除净
6 大气等离子 一般 较大 清洗能力较差
 
纳米干冰半导体清洗设备参数导航
 
型号 光学零件清洗机WMGB02
外形尺寸 500×900×1200
重量 60Kg
电源 AC220V 50Hz 单相
功率 3.5kW
CO2喷射系统
CO2 气态/液态
CO2压力 ≥1MPa
喷嘴规格 0.1mm~4mm
CO2消耗量 50~200g/min
CO2恒温系统
介质 水/制冷剂
容量 4L
温度调节范围 室温~10℃
CO2增压系统
驱动介质 压缩空气
驱动气压 0.1~0.8MPa
增压比 1:15
增压量 320L/min
CDA辅助系统
CDA气体 压缩空气/氮气
CDA压力 0.1~0.8MPa
CDA温度调节 标配

 

纳米干冰半导体清洗设备清洗效果展示

光学零件清洗效果
镜头镜片清洗
 能高效清洗镜头镜片表面细微的颗粒物、指纹等污染物。