纳米干冰半导体清洗设备
纳米干冰半导体清洗设备
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纳米干冰半导体清洗设备

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广东省 佛山市
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佛山微迈科技有限公司
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广东省 佛山市

 

纳米干冰半导体清洗设备原理导航栏
 
以颗粒状的干冰作为清洗介质,通过压缩空气将干冰微粒高速喷向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷冻至脆化并爆裂,干冰微粒通过撞击作用渗透到污垢及基层材料之间,随即升华,体积瞬时增大800倍,迫使污垢与基层材料脱离,达到清洗的目的。
单喷头干冰清洗工作图
干冰清洗原理示意图
单喷头干冰清洗工作图
单喷头干冰清洗速度压力仿真
单喷头干冰清洗速度压力仿真                                                                   干冰清洗原理示意图
 
纳米干冰半导体清洗设备技术对比导航
 
序号 清洗方法 异物粒子祛除 膜层祛除 对物件的损伤 干燥工序 环境污染 难题
湿法 1 纯水 一般 较差 一般 水膜再着附,金属元素残留
2 有机溶剂 一般 较好 较大 有机溶剂再着附,溶剂后处理
干法 3 纳米干冰 很好 较低 清洗面积较小
4 超声波 一般 一般 固体异物,微细颗粒难除净
5 空气 一般 一般 固体异物,微细颗粒难除净
6 大气等离子 一般 较大 清洗能力较差
 
纳米干冰半导体清洗设备参数导航
 
型号 半导体清洗机WMGB01
外形尺寸 450×500×300
重量 20Kg
电源 220V 50Hz 单相
功率 2kW
CO2喷射系统
CO2 液态
CO2压力 ≥5.5MPa
喷嘴规格 0.1mm~4mm
CO2消耗量 50~200g/min
CO2恒温系统
介质 -
容量 -
温度调节范围 -
CO2增压系统
驱动介质 -
驱动气压 -
增压比 -
增压量 -
CDA辅助系统
CDA气体 压缩空气/氮气
CDA压力 0.1~0.8MPa
CDA温度调节 选配

 

纳米干冰半导体清洗设备清洗效果展示

 

项目 外观

孔内清洗效果

EDX检测残渣

孔内清洗效果

(铝层厚度,SEM检测铝层)

效果
干冰清洗前 表面泛白 孔内有残渣 铝层4.5um ——————
干冰清洗前表面泛白 孔内有残渣 铝层4
干冰清洗后 表面干净 孔内无残渣 铝层4.3um

清洗效果理想

对铝层无腐蚀

结合力:5.2N/cm

干冰清洗后表面干净 孔内无残渣 铝层4
高压水枪清洗后 表面干净 孔内有铜屑 铝层4.5um

①清洗效果理想

孔内有铜屑

结合力:4.5N/cm

高压水枪清洗后表面干净 高压水枪清洗后孔内有铜屑高压水枪清洗后孔内有铜屑2 高压水枪清洗后铝层4

 

项目 孔内清洗效果(EDX检测残渣)
干冰清洗前
1
2
3
元素分析
干冰清洗前1
干冰清洗前2
干冰清洗前3
干冰清洗前元素分析
干冰清洗后
1
2
3
元素分析
干冰清洗后1
干冰清洗后2
干冰清洗后3
干冰清洗后元素分析
高压水枪清洗后
1
2
3
元素分析
高压水枪清洗后1
高压水枪清洗后2
高压水枪清洗后3
高压水枪清洗后元素分析
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