多弧离子真空镀膜技术是一种先进的薄膜沉积方法,广泛应用于制造各种高性能薄膜材料。这种技术利用多个电弧离子源产生高度电离的离子束,可以在基板表面沉积出高密度、高纯度的薄膜层。常见的多弧离子真空镀膜所得到的薄膜种类众多,主要包括以下几类:
1. 金属薄膜:多弧离子真空镀膜技术可以沉积各种金属薄膜,如钛、铬、铝、钨、钼镍、钽等,这些金属薄膜广泛应用于电子器件、光学薄膜和装饰性涂层等领域。
2. 氧化物薄膜:利用多弧离子真空镀膜技术可以制备各种氧化物薄膜,如氧化硅、氧化铝、二氧化钛、三氧化二钛等,这些氧化物薄膜具有优异的耐高温、耐腐蚀、绝缘性能,广泛应用于集成电路、光电子器件和机械部件的保护层。
3. 复合薄膜:多弧离子真空镀膜技术还可以沉积各种复合薄膜,如TiAlN、CrAlN、TiSiN等超硬涂层,这些复合薄膜具有出色的硬度、耐磨性和耐腐蚀性,在切削刀具、模具和机械零件表面处理中有广泛应用。
4. 梯度功能薄膜:多弧离子真空镀膜技术可以实现薄膜组分和结构的精细调控,可以制备出具有梯度功能的薄膜,如梯度组分、梯度结构的薄膜,这类薄膜在光学、电子、磁性等领域有重要应用。
5. 生物医用薄膜:多弧离子真空镀膜技术还可以制备生物相容性良好的薄膜涂层,如羟基磷灰石、氮化钛等,这些薄膜可用于生物医疗植入体的表面改性,提高其生物相容性和抗菌性。
总的来说,多弧离子真空镀膜技术凭借其独特的离子束沉积机理,可以制备出性能优异的各类薄膜材料,在电子、光学、机械、生物医疗等众多领域都有广泛应用前景。随着技术的不断发展和创新,相信未来多弧离子真空镀膜技术必将在更多领域发挥重要作用。
西安志阳百纳真空镀膜有限公司成立于2010年,是一家专业真空镀膜加工企业,公司拥有雄厚的技术背景,与多家985高校实验室有合作及技术交流,公司技术人员在真空镀膜行业有资深经历。公司目前有PVD真空多弧离子镀膜和金刚石镀膜设备数台。
表面镀层可选:类金刚石膜Ta-C、石墨烯膜Zy-C.钛、铬、铜、铝、镍、镍、铬、锆等金属单质膜。各种氮化物(比如氮化钛TiN),各种碳化物(比如TiC),氧化物(TiO2等),碳氮化物等化合物膜层,复合多层膜等。
镀层特点:表面硬度高、致密性好、耐久性强、附着强度高,适合表面要求高的零部件。 可在各种金属,玻璃,陶瓷,塑料,碳纤维上镀以上镀层,镀层厚度200nm~1000nm,普通镀层硬度2000~2500HV(维氏硬度),金刚石镀层硬度7500HV(维氏硬度)
主要应用领域
1.模具刀具工具零件表面镀膜
2.汽车船舶交通工具零件镀膜
3.手表首饰工艺品等表面镀膜
4.高精度工业零部件表面镀膜
5.航天航空军工零件表面镀膜
6.手术器械医疗工具表面镀膜
7.电子设备通讯器材零件镀膜
8.其他特殊产品零件表面镀膜