以颗粒状的干冰作为清洗介质,通过压缩空气将干冰微粒高速喷向清洗物表面,使清洗物表面的污垢冷冻至脆化并爆裂,干冰微粒通过撞击作用渗
透到污垢及基层材料之间,随即升华,体积瞬时增大800倍,迫使污垢与基层材料脱离,达到清洗的目的。解决微纳电子制造产业如半导体、光学、
液晶面板等行业表面污染物清洗困难。
清洗原理示意图
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产品型号：WMGB02
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