高纯水设备通常采用的工艺为反渗透+深度处理,目前常用的深度处理工艺有EDI、再生混床、不可再生混床(又称抛光混床)。它们各有优缺点,用户需要根据自己用水的特点选择适合自己的处理工艺。
我公司在北京工业大学做的高纯水设备就是根据用户经常不连续使用该设备而特别设计选用的双级抛光混床装置。其出水水质电阻率要求在18MΩ.cm。采用两级抛光混能在短时间内达到产水水质要求。
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